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CF4常溫常壓下穩定，避免強氧化劑、易燃物或可燃物。不可燃氣體，容器內的壓力在遇到高熱時升高，有破裂和爆炸的危險。化學性質穩定，不燃。在室溫下，只有液氨鈉金屬試劑才能起作用。儲存注意事項：存放于陰涼通風的不可燃氣體倉庫內。遠離火源和熱源。儲...

?CF4泄漏分析儀基于超靈敏的懸臂梁增強光聲光譜檢測技術，結合量子級聯激光（QCL）光源，致力于CF4的中紅外基本光譜吸收峰。兩者的結合提供了足夠的靈敏度，可以毫不延遲地檢測到小濃度的CF4飛濺或溢出，同時確保了超高的穩定性。重新校準周期持...

光聲光譜學原理：以光聲效應為基礎的一種新型光譜分析檢測技術。用一束強度可調制的單色光照射到密封于光聲池中的樣品上，樣品吸收光能，并以釋放熱能的方式退激，釋放的熱能使樣品和周圍介質按光的調制頻率產生周期性加熱，從而導致介質產生周期性壓力波動，...

自1960年以來，世界電力工業廣泛使用變壓器油中多種故障氣體的色譜分析及多比值，TD圖等判斷方法為電力部門的安全高效運行提供重要依據。監測方法主要有氣相色譜法（油色譜）和光聲光譜法。1、氣相色譜法：利用氣相色譜法對變壓器油中溶解氣體進行分析...

光聲光譜是光譜技術的一種，用光照射某種媒質時，由于媒質對光的吸收會使其內部的溫度改變從而引起媒質內某些區域結構和體積變化；當采用脈沖光源或調制光源時，媒質溫度的升降會引起媒質的體積漲縮，因而可以向外輻射聲波。這種現象稱為光聲效應。放在密閉容...

AMC在線監測空氣分子污染的實時監測對于半導體生產過程非常重要。快速監視，警報，低濃度測量，寬測量范圍以及對多種氣體的高度敏感響應是半導體行業的要求。深紫外光刻工藝特別注意氨，胺，N-甲基吡咯烷酮NMP，酸等的濃度測量。當這些氣體與化學放大...